高锰酸钾去除金属离子杂质的具体反应是氧化还原反应。在这个过程中，高锰酸钾作为强氧化剂，能够与镀槽中的金属离子发生反应，将其氧化成更高价态的离子或化合物。这些被氧化的金属离子或化合物随后可能转化为沉淀物，从而从镀液中去除。

例如，当高锰酸钾与某些金属离子（如铁离子）反应时，可以将其氧化成不溶性的沉淀物，如氢氧化铁等。这些沉淀物随后可以通过过滤或其他方法从镀液中分离出来，从而达到去除金属离子杂质的目的。

需要注意的是，具体的反应条件和产物可能因金属离子的种类和浓度、高锰酸钾的用量以及反应环境的不同而有所差异。因此，在实际应用中，需要根据具体情况进行优化和调整，以达到最佳的去除效果。

此外，由于高锰酸钾具有强氧化性，操作时应注意安全，避免与可燃物或还原性物质接触，以防止火灾或爆炸事故的发生。同时，也要控制好反应时间和浓度，以避免对镀液和电镀产品造成不良影响。