高锰酸钾去除镀槽中的金属离子杂质主要通过其氧化作用实现。在电镀过程中，高锰酸钾能够氧化镀槽中的金属离子，使其转化为易于去除或沉淀的形式。通过适当的化学反应，这些金属离子杂质可以被有效地清除，从而提高电镀的质量和效果。

此外，高锰酸钾的络合作用也有助于稳定镀液，减少不良因素对电镀过程的影响。络合作用可以使金属离子与高锰酸钾形成络合物，进一步减少它们在镀液中的活性，从而防止它们对电镀过程造成干扰。

需要注意的是，在使用高锰酸钾去除金属离子杂质时，应严格控制其浓度和处理时间。过高的浓度或过长的处理时间可能导致镀层过度腐蚀或影响电镀效果。同时，操作时应遵循安全规范，确保人员和环境的安全。

总之，高锰酸钾通过其氧化和络合作用在电镀过程中去除金属离子杂质，为改善电镀质量和提高产品性能提供了有效的手段。